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國(guó)產(chǎn)低溫三氣培養(yǎng)箱 恒溫細(xì)胞孵箱
國(guó)產(chǎn)低溫三氣培養(yǎng)箱 恒溫細(xì)胞孵箱
簡(jiǎn)要描述:

國(guó)產(chǎn)低溫三氣培養(yǎng)箱 CHSQ-100恒溫細(xì)胞孵箱通過模擬微生物、組織、細(xì)胞等生長(zhǎng)環(huán)境,提供穩(wěn)定的溫濕度、二氧化碳濃度和氧氣濃度,應(yīng)用于細(xì)胞、組織培養(yǎng)和某些特殊微生物的繁殖和培養(yǎng)。

更新時(shí)間:2024-10-23

訪問量:1991

產(chǎn)品型號(hào):CHSQ-100

廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

品牌其他品牌濕度范圍40-95%RH
控溫范圍4~60℃容量規(guī)格100升
溫度均勻性1℃價(jià)格區(qū)間2萬-5萬
應(yīng)用領(lǐng)域綜合

國(guó)產(chǎn)低溫三氣培養(yǎng)箱 CHSQ-100恒溫細(xì)胞孵箱主要特征:

1.CO2氣體濃度檢測(cè)采用IR紅外傳感器,計(jì)算出CO2氣體濃度。工作時(shí),傳感器無機(jī)械磨損,響應(yīng)速度快,可靠性能高,穩(wěn)定性能好,且使用壽命長(zhǎng)。

2.O2氣體濃度檢測(cè)采用進(jìn)口電化學(xué)氧氣傳感器,具有線性度好,檢測(cè)準(zhǔn)確等特點(diǎn),壽命長(zhǎng),能充分滿足用戶需要。

3.溫度檢測(cè)全部采用進(jìn)口PT100電阻溫度傳感器,性能穩(wěn)定,線性度好。獨(dú)立套溫和門溫控制,由五個(gè)面的套溫和一個(gè)面的門溫合成工作室溫度,準(zhǔn)確度高。

4.O2氣體濃度小于19.8%時(shí),采用高純N2氣體和CO2氣體,保證CO2氣體濃度和O2濃度的準(zhǔn)確性。

5.O2氣體濃度大于23%時(shí),采用高純O2氣體和CO2氣體,保證CO2氣體濃度和O2濃度的準(zhǔn)確性。

6.箱內(nèi)采用微風(fēng)循環(huán)方式,使空氣循環(huán)接近自然界空氣對(duì)流,縮短溫度、濕度、O2濃度和CO2濃度的恢復(fù)時(shí)間,確保溫度、濕度、O2濃度和CO2濃度的均衡性。

7.箱門打開時(shí),電磁閥自動(dòng)關(guān)閉微風(fēng)循環(huán)自動(dòng)停止,減少氣體損失節(jié)約氣源,減少外界空氣進(jìn)入箱內(nèi)而造成的污染。

8.單獨(dú)的門溫控制系統(tǒng),使箱內(nèi)恒溫控制極少受到環(huán)境溫度變化的影響。

9.溫度、氣體濃度,均采用數(shù)字顯示,直觀、清晰、準(zhǔn)確。

10.具有多種保護(hù)功能,當(dāng)顯示溫度超過預(yù)置溫度時(shí),可自動(dòng)切斷全部加熱電源。具有獨(dú)立的超溫繼電保護(hù)功能,保證溫度不超過預(yù)置值。

11.水盤自然蒸發(fā)加濕,濕度達(dá)到95%,304不銹鋼材質(zhì),圓弧,易清潔。

12.滅菌系統(tǒng):紫外燈滅菌,靈活可控,操作時(shí)間短

13.制冷方式:半導(dǎo)體制冷或壓縮機(jī)制冷

 

 

國(guó)產(chǎn)低溫三氣培養(yǎng)箱 CHSQ-100恒溫細(xì)胞孵箱參數(shù):

型號(hào)

CHSQ-50

CHSQ-80

CHSQ-100

CHSQ-160

CHSQ-200

顯示屏

5.0寸觸摸屏

公稱容積

50L

80L

100L

160L

200L

溫度控制范圍

4-50℃

溫度波動(dòng)度

±1(@37)℃

溫度均勻性

±2(@37)℃

C02濃度控制范圍

0-20VOL%

C02濃度控制誤差

±0.1VOL%

02濃度控制范圍

1-95VOL%

02濃度控制誤差

±0.3%

環(huán)境溫度

5-30℃,建議25±2℃

功率

600w

650w

700w

750w

850w

工作室尺寸mm

350*350*400

400*350*580

410*410*600

500*500*650

500*530*750


耗氣,通常主要是指:
低氧實(shí)驗(yàn)下,降氧過程中 + 維持低氧環(huán)境下,N2的消耗;
CO2的消耗相對(duì)于氮?dú)夂脱鯕?,就可以忽略了?0升培養(yǎng)箱一般一罐CO2至少能用3個(gè)月。
所采用的鋼瓶,不到一人高,基本容積為40L,氣體如果是滿罐氣體,大約12~13MPa,折合來,就是4800L~5200L。
例如:50L儀器,低氧實(shí)驗(yàn),
加入50升N2,攪拌均勻后排出50L氣體,此時(shí)箱內(nèi)O2含量約為10.4%;
再加入50升N2,攪拌均勻后排出50L氣體,此時(shí)箱內(nèi)O2含量約為5.2%;
再加入50升N2,攪拌均勻后排出50L氣體,此時(shí)箱內(nèi)O2含量約為2.6%;
再加入50升N2,攪拌均勻后排出50L氣體,此時(shí)箱內(nèi)O2含量約為1.3%,
所以從空氣濃度降氧,大致5%氧氣濃度時(shí)需2倍箱體容積N2,1%氧氣濃度時(shí)需4倍箱體容積N2。
耗氣是克服箱體的正常泄露,維持低氧環(huán)境所需消耗的氮?dú)?,一?天需要的氮?dú)饬繛檫M(jìn)氣量的兩倍。耗氣量的消耗,還與儀器的氣密性、鋼瓶的氣密性、減壓閥的氣密性有關(guān)。

 

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